Китайской корпорацией Huawei была подана заявка на патент для сканера фотолитографии в глубоком ультрафиолете. Речь идет об исключительном праве компании на все важные компоненты данного сканера, длина волны которого достигает 13.5 нанометров. Также в патентной заявке указана система литографии и технологии контрольного управления.
Конечно, имеющийся патент еще не означает того, что подобного рода сканер будет уже создан компанией. Однако стоит учитывать, что Huawei имеет как финансовые, так и интеллектуальные ресурсы для создания литографа.
Если Huawei сможет создать подобный сканер, то это поможет компании побороть те проблемы и неудобства, к которым привели американские санкции. В случае создания литографа Huawei сможет начать выпускать чипы менее 7 нанометров.
Стоит отметить, что над созданием аппаратов фотолитографии в глубоком ультрафиолете трудились многие компании. Но только лишь нидерландская компания ASML смогла преуспеть в этой области.